报废钯锭回收-「铑丝回收提纯」

admin 铂铑铱钌 发布日期:2021-01-27

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近年来,许多有关制造纳米级图案的研究引起了很多关注:纳米压印,EB光刻,X射线光刻等[1],[2]。另一方面,作为应用,已经对光子晶体,生物分子培养池,铑丝回收提纯纳米级光学元件和高密度光学数据存储进行了深入研究。[3]– [6]不幸的是,报废钯锭回收几乎所有的设备都是通过EB光刻制造的,但是,与光学光刻相比,EB技术在有限的扫描速度和面积,使用真空室,报废钯锭回收设备和运行成本方面有许多缺点。为了克服这些问题,自1990年代以来,已经基于EB光刻技术开发了纳米压印和近场光学光刻技术。

作为光学近场应用之一,铑丝回收提纯我们开发了超分辨率近场结构super-RENS,自1998年以来在光学数据存储领域的研究。[7] 最近,在薄的氧化铂(PtOx)层中记录了37 nm尺寸的凹坑,报废钯锭回收该层被电介质薄层夹在中间。[8]在记录中,使用405 nm波长和0.85的透镜数值孔径。铑丝回收提纯即使使用这种光学元件,我们也通过蓝激光DVD系统成功确认了波形。记录和读取的最小凹坑尺寸非常小:相对于400 nm的激光光斑尺寸为1/10。在固化这样的小凹坑时,氧化铂薄层在通过激光分解产生纳米级气泡方面具有重要作用。这种引人入胜的凹坑产生不仅限于光学数据存储,而且还衍生出了更广泛的光学纳米光刻技术。被电介质薄层夹在中间。[8]在记录中,使用405 nm波长和0.85的透镜数值孔径。即使使用这种光学元件,我们也通过蓝激光DVD系统成功确认了波形。记录和读取的最小凹坑尺寸非常小:相对于400 nm的激光光斑尺寸为1/10。在固化这样的小凹坑时,氧化铂薄层在通过激光分解产生纳米级气泡方面具有重要作用。这种引人入胜的凹坑产生不仅限于光学数据存储,而且还衍生出了更广泛的光学纳米光刻技术。被电介质薄层夹在中间。


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